Metodo di pulizia dell'attrezzatura per acqua pura

Metodo di pulizia dell'attrezzatura per acqua pura

In normali condizioni operative, le membrane per osmosi inversa possono anche essere scaglie inorganiche, colloidi, microrganismi, ossidi metallici, come l'inquinamento, che si depositano sulla superficie della membrana da apparecchiature per acqua pura, caduta di uscita o tasso di desalinizzazione, maggiore differenza di pressione provoca danni irreparabili alla membrana. Pertanto, al fine di ripristinare le prestazioni dell'attrezzatura per acqua pura, l'impermeabilizzazione e la desalinizzazione e la necessità di pulire l'attrezzatura per acqua pura.

Attrezzatura per osmosi inversa con lavaggio a bassa pressione

Il lavaggio regolare delle apparecchiature ad osmosi inversa con flusso elevato, bassa pressione e basso pH è utile per rimuovere lo sporco che aderisce alla superficie della membrana, mantenere le prestazioni della membrana e SDI aumenta improvvisamente di oltre 5 quando viene iniettata l'attrezzatura per acqua pura di laboratorio o l'acqua l'attrezzatura ad osmosi inversa. Quando supera 5, il lavaggio a bassa pressione deve essere eseguito e avviato dopo che il valore SDI è stato regolato per passare.

2. Protezione di arresto dell'attrezzatura ad osmosi inversa

A causa delle fluttuazioni della produzione, le apparecchiature ad osmosi inversa per le apparecchiature ad acqua pura verranno inevitabilmente chiuse frequentemente. Quando il dispositivo viene disattivato per un breve periodo o per un lungo periodo, è necessario adottare misure di protezione. L'uso improprio può causare il degrado delle prestazioni della membrana e non può essere recuperato.

Lo stoccaggio a breve termine è adatto per il sistema di spegnimento 15d e le apparecchiature a osmosi inversa possono essere protette mediante lavaggio una volta ogni 1 ~ 3d. In pratica, si è constatato che quando la temperatura dell'acqua è superiore a 20 ° C, l'acqua nell'apparecchiatura per l'osmosi inversa odorerà e si deteriorerà dopo la conservazione per 3 giorni, e una grande quantità di batteri si riprodurrà. Pertanto, quando la temperatura dell'acqua è superiore a 20 ° C, si consiglia di lavarla con acqua a bassa pressione ogni 2 o 1 giorno. Quando la temperatura dell'acqua è inferiore a 20 ° C, viene lavata una volta ogni 3 giorni. Dopo ogni pulizia, tutte le valvole di ingresso e uscita dell'unità di osmosi inversa dell'attrezzatura per la depurazione dell'acqua devono essere chiuse. La protezione di disattivazione a lungo termine si applica ai sistemi che sono stati disattivati per più di 15 giorni. A questo punto, il liquido protettivo (biocida) deve essere iniettato nell'apparato di osmosi inversa dell'attrezzatura di depurazione dell'acqua per protezione. La formula fungicida comunemente usata (film composito) nelle apparecchiature di acqua pura di laboratorio è la formaldeide 10 (frazione di massa), l'isotiazolinone 20 mg / L, l'idrogeno solforato di sodio 1 (frazione di massa).

3. Pulizia chimica della membrana ad osmosi inversa

In condizioni operative normali, le membrane per osmosi inversa possono anche essere scaglie inorganiche, colloidi, microrganismi, ossidi metallici, come l'inquinamento, che si depositano sulla superficie della membrana per causare apparecchiature di depurazione delle acque, calo dell'uscita delle apparecchiature ad osmosi inversa o tasso di desalinizzazione, aumenti della differenza di pressione, e anche provoca danni irreparabili alla membrana, e quindi, al fine di ripristinare buone proprietà idriche e di desalinizzazione, è necessaria la pulizia chimica della membrana.

Generalmente, dovrebbe essere pulito ogni 3 ~ 12 mesi. Se viene pulito una volta al mese, l'attrezzatura per acqua pura indica che il sistema di pretrattamento deve essere migliorato e che i parametri di funzionamento vengono regolati. Se l'apparecchiatura deve essere pulita ogni 1-3 mesi, è necessario aumentare il livello di funzionamento dell'apparecchiatura. È difficile determinare se il sistema di pre-elaborazione deve essere migliorato. .